環境負荷の小さな銅の湿式精錬法など、新たな製錬プロセスの開発に取り組んでいます。
リチウムイオン電池用のニッケル酸リチウム(LNO)などの開発に取り組んでいます。
高輝度白色LED向けに使用されるサファイア基板の開発などに取り組んでいます。
透明導電膜など、スパッタリングのターゲット材料を開発しています。
液晶のドライバーICを実装するために使われる2層めっき基板の高性能化、次世代の実装材料のベース基材の研究開発などに取り組んでいます。
熱線遮蔽インク、導電線インクの用途開発、新規ニッケル粉の開発などに取り組んでいます。